先端半導体の国内生産拠点の確保とは　令和5年の補正予算の中で6,332億円と巨額の予算規模

11月に、経済産業省が令和5年度の補正予算の概要を発表しました。物価高対策や賃上げに関するテーマに加えて、成長力の強化や高度化を支援し、国内投資を促進するテーマも取り上げられ、その予算規模は2.7兆円に達します。

半導体、AI、再生可能エネルギーなど多岐様々なテーマが含まれますが、「先端半導体の国内生産拠点の確保」は国内投資を促進するカテゴリーの中で、6,322億円という巨額の予算を有する重要なテーマです。

このコラムでは、「先端半導体の国内生産拠点の確保」の概要や具体的な開発テーマ、助成の受け方について説明いたします。 

 

先端半導体の国内生産拠点の確保とは？ 

半導体は、デジタル化の進展により、自動車や医療機器等の様々な分野での活用が拡大する一方、グローバルなサプライチェーンが影響を受けるリスクが高まっています。

あらゆる産業に影響を与え、デジタル社会において不可欠な先端半導体の安定供給を確保することが、産業基盤の強靱化や戦略的自律性・不可欠性の向上の観点で、最重要課題です。

本事業では、先端半導体の国内生産拠点整備への支援を行うことで、事業者による生産施設整備への投資判断を後押しすることを目的としています。 

具体的には、５Ｇ促進法に基づいて認定を受けた先端半導体の生産施設整備及び生産に関する計画について、新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）に設置する基金から、認定を受けた事業者が計画の実施に必要な資金が最大1/2補助されます。 

※５G促進法：特定高度情報通信技術活用システムの開発供給及び導入の促進に関する法律（01_abstract.pdf (meti.go.jp)） 

これまでに、Japan Advanced Semiconductor Manufacturing株式会社、キオクシア株式会社、マイクロンメモリジャパン株式会社が助成の対象となっています。 

 

本事業の概要 

特定半導体生産施設整備等計画の申請・認定に関するフローを以下に記載します。 

次に、申請・認定対象となる計画を記載します。 

出典：経済産業省 特定高度情報通信技術活用システムの開発供給及び導入の促進に関する法律（特定半導体生産施設整備等関係）より引用(特定高度情報通信技術活用システムの開発供給及び導入の促進に関する法律（特定半導体生産施設整備等関係） （METI/経済産業省）) 

 

助成の対象となる設備は、半導体の生産に関係する施設・設備です。生産活動に欠かせない施設や設備については、対象として含めることができますが、生産活動に必須とは認められない附帯施設や設備等は対象に含むことはできません。

例えば、生産施設の敷地内に、倉庫や食堂、テニスコートといった施設や、事務用PCや自動販売機といった設備など、半導体の生産とは直接関係しない施設・設備を設置することは対象外となります。 

また、認定基準は、指針への適合性や事業実施の確実性、一定期間以上の継続的な生産、国内での安定的な生産に資する取り組みを行う、技術上の情報管理のための体制整備などが求められています。 

 

まとめ 

このコラムでは、先端半導体の国内生産拠点の確保の概要について説明をしました。専門性の高いテーマですが、関連している事業を展開している事業者様にとっては金額規模の大きい補助金となります。効果的に活用ができれば、大きなメリットが得られるでしょう。 

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